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杭州柠檬酸污水处理设备优质生产厂家

杭州柠檬酸污水处理设备优质生产厂家

简要描述:杭州柠檬酸污水处理设备优质生产厂家
一体化污水处理设备是将一沉池、I、II级接触氧化池、二沉池、污泥池集中一体的设备,并在I、II级接触氧化池中进行鼓风曝气,使接触氧化法和活性污泥法有效的结合起来,同时具备两者的优点,并克服两者的缺点,使污水处理水平进一步提高。

所属分类:柠檬酸污水

更新时间:2019-09-07

访问次数:61

详细说明:

杭州柠檬酸污水处理设备优质生产厂家

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SDRL-AO湖南地埋式一体化污水处理设备

SDRL-AO湖南地埋式一体化污水处理设备

在正常运行一段时间后,反渗透膜元件会受到给水中可能存在的悬浮物或难溶盐的污染,这些污染中见的是碳酸钙沉淀、钙沉淀、金属(铁、锰、铜、镍、铝等)氧化物沉淀、硅沉积物、无机或有机沉积混合物、NOM天然有机物质、合成有机物(如:阻垢剂/分散剂,阳离子聚合电解质)、微生物 (藻类、霉菌、真菌)等污染。

 

1、反渗透膜污染特征

 

污染性质和污染速度取决于各种因素,如给水水质和系统回收率。通常污染是渐进发展的,如不尽早控制,污染将会在相对较短的时间内损坏膜元件。当膜元件确证已被污染,或是在长期停机之前,或是作为定期日常维护,建议对膜元件进行清洗。下表“反渗透膜污染特征”列出了常见的污染现象。

 

 表:反渗透膜污染特征

污染种类

可能发生之处

压降

给水压力

盐透过率

金属氧化物(Fe、Mn、Cu、Ni、Zn)

一段,前端膜元件

迅速增加

迅速增加

迅速增加

胶体(有机和无机混合物)

一段,前端膜元件

逐渐增加

逐渐增加

轻度增加

矿物垢(Ca、Mg、Ba、Sr)

末段,末端膜元件

适度增加

轻度增加

一般增加

聚合硅沉积物

末段,末端膜元件

一般增加

增加

一般增加

生物污染

任何位置,通常前端膜元件

明显增加

明显增加

一般增加

有机物污染(难溶NOM)

所有段

逐渐增加

增加

降低

阻垢剂污染

二段严重

一般增加

增加

一般增加

氧化损坏

一段严重

一般增加

降低

增 加

水解损坏(超出pH范围)

所有段

一般降低

降低

增 加

磨蚀损坏(碳粉)

一段严重

一般降低

降低

增 加

O型圈渗漏(内连接管或适配器)

无规则,通常在给水适配器处

一般降低

一般降低

增 加

胶圈渗漏(产水背压造成)

一段严重

一般降低

一般降低

增 加

胶圈渗漏(清洗或冲洗时关闭产水阀造成)

末端元件

增加(污染初期和压差升高)

增 加

 

2、污染情况分析

 

碳酸钙垢:

  

碳酸钙垢是一种矿物结垢。当阻垢剂/分散剂添加系统出现故障时,或是加酸pH调节系统出故障而引起给水pH增高时,碳酸钙垢有可能沉积出来。尽早地检测碳酸钙垢,对于防止膜层表面沉积的晶体损伤膜元件是必要的。早期检测出的碳酸钙垢可由降低给水的pH值至3~5,运行1~2小时的方法去除。对于沉积时间长的碳酸钙垢,可用低pH值的柠檬酸溶液清洗去除。

  

钙、钡、锶垢:

  

盐垢是比碳酸钙垢硬很多的矿物质垢,且不易去除。盐垢可在阻垢剂/分散剂添加系统出现故障或加调节pH时沉积出来。海德能公司认为尽早地检测盐垢对于防止膜层表面沉积的晶体损伤膜元件是必要的。钡和锶垢较难去除,因为它们几乎在所有的清洗溶液中难以溶解,所以,应加以特别的注意以防止此类结垢的生成。

  

金属氧化物/氢氧化物污染:

  

典型的金属氧化物和金属氢氧化物污染为铁、锌、锰、铜、铝等。这种垢的形成导因可能是装置管路、容器(罐/槽)的腐蚀产物,或是空气中氧化的金属离子、氯、臭氧、钾、高锰酸盐,或是由在预处理过滤系统中使用铁或铝助凝剂所致。

  

聚合硅垢:

 

硅凝胶层垢由溶解性硅的过饱和态及聚合物所致,且非常难以去除。需要注意的是,这种硅的污染不同于硅胶体物的污染。硅胶体物污染可能是由与金属氢氧化物缔合或是与有机物缔合而造成的。硅垢的去除很艰难,可采用传统的化学清洗方法。

  

胶体污染:

  

胶体是悬浮在水中的无机物或是有机与无机混合物的颗粒,它不会由于自身重力而沉淀。胶体物通常含有以下一个或多个主要组份,如:铁、铝、硅、硫或有机物。

  

非溶性的天然有机物污染(NOM):

  

非溶性天然有机物污染(NOM——Natural Organic Matter)通常是由地表水或深井水中的营养物的分解而导致的。有机污染的化学机理很复杂,主要的有机组份或是腐植酸,或是灰黄霉酸。非溶性NOM被吸附到膜表面可造成RO膜元件的快速污染,一旦吸收作用产生,渐渐地结成凝胶或块状的污染过程就会开始。

  

微生物沉积:

  

有机沉积物是由细菌粘泥、真菌、霉菌等生成的,这种污染物较难去除,尤其是在给水通路被完全堵塞的情况下。给水通路堵塞会使清洁的进水难以充分均匀的进入膜元件内。为抑制这种沉积物的进一步生长,重要的是不仅要清洁和维护RO系统,同时还要清洁预处理、管道及端头等。

 

以上信息由企业自行提供,信息内容的真实性、准确



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